열화학증착법(Thermal Chemical Vapor Deposition, TCVD)

열화학증착(TCVD)기술의 주요 사항은 기판 위에 얇은 필름이 합성되는 고압의 reactor로 1,000ºC 가량의 고온에서 가스들을 유입시키는 것입니다.

검증된 기술력

그래핀스퀘어의 TCVD 시스템은 튼튼하고 신뢰성있는 하드웨어 소재와 부품을 탑재하고 있습니다. 이미 전세계 수많은 대학과 연구기관에서 성공적인 2차원소재 연구를 위해 저희 제품을 선택하였습니다.

CVD 장비 보러가기

장비 개요

TCVD-50B
  1. 1. 2인치 Table-Top형태의 반자동~수동방식TCVD 장비
  2. 2. 연구 펀드가 제한적인 연구자들을 위한 가장 이상적인 시스템
  3. 3. 저렴한 원가로 고품질의 그래핀 제조 가능
  4. 4. 협소한 연구공간에 적합하게 설계되어 최소화된 공간 제약
  5. 5. Training 및 laboratory class에 추천
 TCVD-100A
  1. 1. Safety Cabinet이 장착된 4인치 표준 TCVD 장비
  2. 2. 원가대비 효과가 뛰어난 고급형 모델
  3. 3. 전자동~반자동 gas-flow 온도 조절 모듈 탑제
  4. 4. 고품질의 그래핀 및 h-BNs 등의 다양한 2차원 물질 제작에 최적화된 장비
  5. 5. 장비 전체를 위험으로부터 보호하는 Safety Cabinet 장착
  6. 6. 가스 사용 등 안전에 민감한 연구실에 추천
 TCVD-D100A
  1. 1. TMDC합성을 위한 4인치 전자동 Dual-Furnace CVD 시스템
  2. 2. 컴퓨터를 이용한 컨트롤 모듈로 인해 다수 사용자의 조작에도 안정적 성장조건 유지 가능
  3. 3. 이동가능한 dual furnace로 인하여 급속가열, 급속냉각이 가능함
  4. 4. 비상시 경보/정지 기능 탑제
  5. 5. 연구소 기관 및 학교 연구소에 적합한 장비
TCVD-RF100CA
  1. 1. TMDC 및 h-BN 합성을 위한 프리미엄 주문제작형 시스템
  2. 2. 그래핀, TMDC 및 기타 2차원 물질 합성을 위하여 고품질, 내구성, 지속성, 안전성을 고루 갖추어 제작
  3. 3. 높은 안전을 요구하는 기관 및 연구소에 추천 / 산업체 제조용으로도 활용 가능
  4. 4. 현재 ETH IBM 센터와 서울대 그래핀연구센터에 설치되어 있음
TCVD-DRF100CA
  1. 1. 시스템 내에 두 개 configured reactor를 탑제
  2. 2. 엄격한 안전 규제 충족을 위하여 제작
  3. 3. 멀티튜브 수평 furnace 시스템
  4. 4. Hood를 통해 로딩시 외부로부터의 이물 오염을 최소화
  5. 5. Glove Box를 통한 외부 공기 유입을 완벽히 차단
 TCVD-V200A
  1. 1. 대면적, 고품질 그래핀의 양산 가능 장비
  2. 2. 수직 구조를 이용한 장력 통제
  3. 3. Multi heater 통제에 의한 균일한 온도 분포
  4. 4. 고성능 chiller를 이용한 냉각 시스템 탑제
  5. 5. 산업체 및 산업화기술연구소를 겨냥하여 제작된 장비

기술사양

TCVD-50B TCVD-100A TCVD-D100CA TCVD-RF100CA TCVD-DRF100CA
규격
너비 1500mm 너비 1750mm 너비 2300mm 너비 2300mm 너비 2300mm
높이 893mm 높이 1585mm 높이 1770mm 높이 1770mm 높이 1770mm
깊이 590mm 깊이 750mm 깊이 750mm 깊이 750mm 깊이 750mm
특성
경제적 & 공간절약형 모델 고급형 반자동 시스템 고급형 컴퓨터 전자동 시스템 Gas-phase 합성을 위한 최대 10 가스, 3 MO소스 가능 Gas-phase 합성을 위한 최대 10 가스, 3 MO소스 가능
그래핀, CNT, h-BN, TMDC 성장에 최적화 그래핀, CNT, h-BN, TMDC 성장에 최적화 그래핀, CNT, h-BN, TMDC 성장에 최적화 급속 가열/냉각을 위한 이동식 히터(특허) 급속 가열/냉각을 위한 이동식 히터(특허)
수처리 냉각 end chamber 및 door 수처리 냉각 end chamber 및 door 수처리 냉각 end chamber 및 door 컴퓨터 활용 전자동 programmable recipes 컴퓨터 활용 전자동 programmable recipes
공정 온도 최대 1,100ºC 공정 온도 최대 1,100ºC 공정 온도 최대 1,100ºC TCVD100 플랫폼: 5년 초과 100대 이상의 판매를 통해 검증된 성능 보유 TCVD100 플랫폼: 5년 초과 100대 이상의 판매를 통해 검증된 성능 보유
열보호 디자인 - - 샘플 준비 전공정 invited training 합성, 박리, 전사, 샘플 준비 전공정 invited training
필름두께 균일도 ±3%이하 필름두께 균일도 ±3%이하 필름두께 균일도 ±3%이하 - 고품질 source material 공급
Testing 균일도 ±3%이하 Testing 균일도 ±3%이하 Testing 균일도 ±3%이하 - 1년 warranty 제공(2년 연장 가능)
이동식 furnace는 샘플의 급속가열/냉각을 위한 자사 고유의 노하우입니다 이동식 furnace는 샘플의 급속가열/냉각을 위한 자사 고유의 노하우입니다 이동식 furnace는 샘플의 급속가열/냉각을 위한 자사 고유의 노하우입니다 - Glove Box에 연결된 CVD chamber. 공기노출 방지
- 표준 safety box 탑제 표준 safety box 탑제
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